Vakuumli kumush bilan qoplangan magnetron nishonining ish kuchlanishi sputter cho'kishi sodir bo'lganda past bo'ladi
Xabar QOLDIRISH
Vakuumli kumush bilan qoplangan magnetron nishonining ish kuchlanishi sputter cho'kishi sodir bo'lganda past bo'ladi
The increase of the ionization probability of the working gas and the improvement of the ionization rate of the target material reduce the internal resistance during the discharge of the vacuum gas, so the working voltage of the magnetron target during sputtering deposition is low (mostly between 4-600V), and there are The working voltage is slightly higher (such as >700V) va ba'zi ish kuchlanishlari pastroq (masalan, 300V atrofida).
Plyonka hosil qilish uchun substratga vakuumli kumush yotqizish
To'kilgan zarrachalar ma'lum bir funktsiyaga ega bo'lib, ma'lum bir yo'nalishda substrat tomon otilib, nihoyat plyonka hosil qilish uchun substratga cho'kadi. Ko'pgina to'qnashuvlardan so'ng, elektronlarning energiyasi asta-sekin kamayadi, kuch chiziqlarining kishanlaridan xalos bo'ladi va nihoyat substratga, vakuum kamerasining ichki devoriga va maqsadli quvvat manbai anodiga tushadi.
Vakuumli kumush qoplamaning maqsadli yuzasidagi magnit maydon zaryadlangan zarrachalarga cheklovchi ta'sir ko'rsatadi.
Maqsadli sirtdagi magnit maydon zaryadlangan zarrachalarga cheklovchi ta'sir ko'rsatadi. Elektromagnit maydon tomonidan elektronlarning cheklanishi va tezlashishi tufayli elektronlar substrat va anodga etib borishdan oldin yo'llarni bosib o'tadi, bu esa mahalliy AR gazining to'qnashuvi ionlanish ehtimolini sezilarli darajada oshiradi. Elektr maydoni ta'sirida Ar plyus ioni nishonni katod sifatida bombardimon qilishni tezlashtiradi va molekulalar, atomlar va ionlar kabi elektronlarni nishon yuzasiga sochib yuboradi, bu esa nishonning ajralish tezligini yaxshilaydi.
Vakuumli kumushlash ish rejimida ikki bosqichli püskürtme
Magnetron purkash ikki bosqichli purkashning ish rejimidir. Bu asosan ikki va to'rt bosqichli purkashdan farq qiladi; biri doimiy magnit yoki elektromagnit purkalayotgan katod nishoni orqasida o'rnatilgan. Gorizontal komponentli magnit maydon yoki vertikal komponentli magnit maydon maqsadli sirtda hosil bo'ladi va gaz razryaddan hosil bo'lgan elektronlar maqsad yuzasiga yaqin plazma maydonida ma'lum bir orbita bo'ylab harakatlanishi kerak; Uchish-qo'nish yo'lagi aylana bo'ylab aylanadi.
www.superbheater.com
